高纯氧化铈抛光液
关键词：氧化铈；抛光液；微米；亚微米

技术概况

技术编码	000172
技术名称	高纯氧化铈抛光液
关键词	氧化铈；抛光液；微米；亚微米
技术信息简述	氧化铈抛光液是以微米或亚微米级CeO2 为磨料的氧化铈研磨液，该研磨液具有分散性好、粒 度细、粒度分布均匀、硬度适中等特点。适用于宝石，高精密光学仪器，光学镜头，集成电路等方 面的精密抛光。以期打破精密仪器的抛光依赖进口的局面。 目前国际上微电子器件的精密抛光大多为国外公司所垄断，虽然抛光精度高，但成本也很高， 发展国内自主知识产权的抛光技术被提上议事日程。纳米级氧化铈抛光液的研发，使替代国外产品 成为可能，存在巨大的市场空间。
技术信息详述
所属国民经济行业	制造业
所属科学技术领域	新材料技术
技术成熟度	小试
欲合作模式	技术转让 技术许可 合作开发 技术服务 高新产品销售 面议
是否涉密	否
对合作方的要求
其它相关信息
相关专利
相关论文

信息期限

信息有效期

10年

发布人信息

单位名称	国家纳米科学中心
部门名称
单位联系人	任**
E-mail	该信息已隐藏
办公电话	该信息已隐藏
手机号码	该信息已隐藏
其他联系方式	该信息已隐藏
项目联系人
E-mail	该信息已隐藏
办公电话	该信息已隐藏
手机号码	该信息已隐藏
其他联系方式	该信息已隐藏
地址	北京市中关村北一条11号
邮编	100190